Гибкий, чувствительный, производительный фототранзистор!

Учеными Висконсинского университета в Мадисоне разработана технология производства фототранзисторов на гибкой подложке, обеспечивающая рекордные показатели светочувствительности и быстродействия (времени реакции, производительности) даже при сильных изгибах пленочного устройства.
Сочетание высоких значений этих трех характеристик (светочувствительности, быстродействия и изгибоустойчивости), как утверждают американские изобретатели, достигнуто ими впервые в мировой практике производства фототранзисторов.
Высокая светочувствительность в новом фототранзисторе достигнута благодаря тому, что световой поток (а это может быть едва видимый человеческим глазом свет) поглощается с максимальной эффективностью ультратонким мембранным слоем кремния. При этом находящиеся под этой мембраной электроды и металлическая пленка отражают часть светового потока, которая все же прошла сквозь мембрану, обратно в мембрану, дополнительно увеличивая тем самым суммарный коэффициент поглощения.
Новый фототранзистор обладает миниатюрными габаритами, что позволяет уменьшить размеры существующих на сегодняшний день микросхем, применяемых в цифровых фото- и видеокамерах, детекторах дыма, очках ночного видения, системах видеонаблюдения и других изделиях, работа которых основана на измерении силы света.
См. также

Комментарии